• 円形断面を有する3次元マイクロ流体ネットワーク
  • Siナノプローブを有するマイクロツール
  • V字加工したSi基板上に配向成長したカーボンナノチューブのSEM像
  • Si基板上に形成したひずみGe/SiGe微細柱状構造のSEM像
  • Si基板上に形成したひずみGe/SiGe微細柱状構造のSEM像
  • サブ100nm幅・高アスペクト有機トレンチ加工の実施例
  • 垂直成長ナノグラフェン「カーボンナノウォール」の合成例
  • Si製無痛針アレイ
  • 再帰性反射ミラー
  • GMR素子を利用したマイクロ磁気センサ
  • Co/Pt多層膜ナノドットの磁区像


「微細加工プラットフォーム シンポジウム(オンライン)のご案内」(令和3年12月13日)

 微細加工プラットフォーム(代表機関:京都大学)では、 ナノテク、微細加工技術の情報発信を目的に下記のシンポジウムを開催いたします。 産学官、様々な研究開発分野より、多くの皆様の御参加をお待ちしております。

  文部科学省 ナノテクノロジープラットフォーム事業 2021年度
  微細加工プラットフォームコンソーシアム シンポジウム
 『共用施設から生まれるイノベーション』~ナノテクが拓く未来~

 【日時】2021年 12月13日(月)13時より オンライン(Zoomウェビナー利用)
 【参加費】無料(事前登録制)

文部科学省の委託事業である微細加工プラットフォームは、 大学等の施設の共用と蓄積された知によって研究者の課題解決と 研究開発の支援を目的として、2012年度から10年間、共用事業を推進し、 多くの大学や企業の研究者、技術者の方々にご活用頂いてきました。 本シンポジウムでは、10年間の活動、取り組みを振り返りながら、 ナノテクノロジー研究開発への貢献、共用事業のさらなる発展に向けて、 過去、現在、未来のプラットフォームについてご紹介します。

  <プログラム>
  13:00 主催者から 微細加工プラットフォーム代表機関 運営責任者  小寺 秀俊
  13:05 挨拶    文部科学省 研究振興局 参事官  江頭 基
  13:10 基調講演 「ナノテクプラットフォームのレガシーを新事業に活かそう」
           文部科学省 ナノテクプラットフォーム プログラムディレクター  佐藤 勝昭
  13:40 特別講演(ナノテクノロジープラットフォーム令和2年度秀でた利用成果 最優秀賞)
           「微小光熱源ナノヒーターR素子」 (東京大学支援)
          株式会社イノバステラ  取締役CTO     杉浦 聡
  14:20 活動報告 ~ナノプラが伝えるもの~
     (1)「微細加工プラットフォームの10年間の活動の振り返りと今後に向けて」
           微細加工プラットフォーム代表機関 運営責任者  小寺 秀俊
     (2)共用施設・技術支援の進化、成長
        「技術者交流を活用した支援力強化とバイオへの応用展開」
           京都大学 ナノテクノロジーハブ拠点     佐藤 政司
        「MEMSを中心としたプロセス支援力の成長と拡大するニーズへの対応」
           東北大学 ナノテク融合技術支援センター   菊田 利行
     (3)共用事業の技術資産と今後の活用
        「利用報告書の分析と価値創造
        ~ 自然言語処理を用いた2次元材料研究開発の動向分析と今後の展望 ~」
           微細加工プラットフォーム代表機関   共同代表  秋永 広幸
  15:40 ポスターセッション 「微細加工プラットフォーム実施機関の紹介」
  16:40 閉会/主催者挨拶   微細加工プラットフォーム代表機関  共同代表  藤田 博

 詳しくは,イベントページをご覧ください。

 

「新型コロナウイルス感染症における共同利用設備の利用制限の変更について」(令和2年9月3日)

 名古屋大学微細加工プラットフォームでは,新型コロナウイルス感染症における本学の活動指針に従い,7月27日以降,学外の方の機器利用を一時停止しておりました. 学内者も継続中・最小限の研究活動に含まれない場合は機器利用を自粛頂いておりましたが,この度その見直しが行われました. これに従い,9月5日以降の微細加工プラットフォームの利用制限を緩和し,学外利用者含め機器共同利用を再開いたします.
 警戒カテゴリーは緩和されますが,利用者の皆様は気を緩めることのないよう,各共用施設の感染防止対策の徹底をお願いいたします. なお,本学技術職員は引き続き在宅勤務が推奨されています.職員の出勤できる範囲での支援対応となりますこと,ご了承下さい.詳しくは微細加工プラットフォーム事務局までお問い合わせ下さい.

薄膜形成からナノ構造・ナノデバイス作製まで総合支援

 名古屋大学は,ナノテクノロジーに関連する広範な技術領域およびそれらに必要となる各種材料群(半導体材料,磁性体材料,誘電体材料,セラミックス系材料,有機系材料など)に対して,最先端の薄膜形成技術,リソグラフィー技術,プラズマエッチング技術を保有しており,ナノ材料形成,ナノ構造形成,ナノデバイス形成などさまざまな支援を行うことができます。具体的には,クリーンルーム等の施設におけるスパッタリングや分子線エピタキシーによる薄膜の形成,フォトリソグラフィや電子線リソグラフィによる微細加工,イオン注入や反応性エッチング装置によるナノプロセス,光電子分光,原子間力顕微鏡,薄膜X線回折による表面分析や構造解析など,多様な装置群の利用とノウハウの提供によって,新規ナノ材料,ナノプロセス,ナノデバイスの研究開発を幅広く支援します。

 本事業では,下記の技術および支援を行います。
○ ナノスケール/マイクロスケール微細パターン形成技術
○ ナノ配線・ナノ電極形成技術
○ ナノドット・ナノ構造等の配列技術
○ プラズマを用いた各種材料のエッチングおよび表面処理技術
○ 各種電子・光デバイス構造作製技術
○ MEMS・NEMS構造作製技術
○ 各種材料(半導体材料,磁性材料,金属材料,有機材料, 無機材料など)の薄膜形成技術