共用機器利用料金改定のお知らせ　 (令和6年6月28日)

昨今の電気料金等の値上げに伴い，現状の使用料維持が困難な状況となったため，令和6年7月1日より機器利用料金を変更させていただきます。（利用料金一覧）
何卒ご理解いただきますようお願い申し上げます。
なお，ARIM事業では，機器利用により創出されるデータを登録するデータ登録型支援と，データを登録しないデータ未登録支援がございます。データ登録／未登録では利用料金が異なりますので，ご注意下さい。
詳しくはご利用方法をご参照下さい。

装置追加のご案内　　（令和6年5月24日更新）

5月1日より新しい装置が6台追加となりましたので, 是非ご利用ください.
詳しくは装置一覧のページをご覧ください.

・プラズマ誘起CVD装置　(サムコ製) PD-220N
・高分解能走査型電子顕微鏡 (日本電子製) JSM-IT800SHL
・原子間力顕微鏡　(パーク・システムズ社製) NX20
・物理特性測定装置　（日本カンタム・デザイン社製）DynaCool-12T
・全自動X線回折装置　(リガク社製) Smart Lab 9kW
・振動試料型磁力計 （玉川製作所製）TM-VSM271483-HGC 　⇒旧VSM入替

ARIMデータ登録に関するページを新設しました　　（令和6年5月24日更新）

ARIM加工・プロセスデバイス分野（名古屋大学）では, データの共用に向け, データ登録のためのサイトをご案内しております. 詳しくはこちら.

「微細加工プラットフォーム」支援事業は「マテリアル先端リサーチインフラ」（Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology in Japan: ARIM）事業に引き継がれました。

　微細加工プラットフォームにて共用機器をご利用頂いた方々は引き続きマテリアル先端リサーチインフラ（ARIM）事業（2022年度〜2032年度）にて引き続き共用支援致します。 マテリアル先端リサーチインフラ事業についてはこちらをご参照下さい。

薄膜形成からナノ構造・ナノデバイス作製まで総合支援

　名古屋大学は,ナノテクノロジーに関連する広範な技術領域およびそれらに必要となる各種材料群（半導体材料,磁性体材料,誘電体材料,セラミックス系材料,有機系材料など）に対して，最先端の薄膜形成技術,リソグラフィー技術,プラズマエッチング技術を保有しており，ナノ材料形成,ナノ構造形成,ナノデバイス形成などさまざまな支援を行うことができます。具体的には，クリーンルーム等の施設におけるスパッタリングや分子線エピタキシーによる薄膜の形成，フォトリソグラフィや電子線リソグラフィによる微細加工，イオン注入や反応性エッチング装置によるナノプロセス，光電子分光，原子間力顕微鏡，薄膜X線回折による表面分析や構造解析など，多様な装置群の利用とノウハウの提供によって，新規ナノ材料，ナノプロセス，ナノデバイスの研究開発を幅広く支援します。

　本事業では，下記の技術および支援を行います。
○ ナノスケール／マイクロスケール微細パターン形成技術
○ ナノ配線・ナノ電極形成技術
○ ナノドット・ナノ構造等の配列技術
○ プラズマを用いた各種材料のエッチングおよび表面処理技術
○ 各種電子・光デバイス構造作製技術
○ MEMS・NEMS構造作製技術
○ 各種材料（半導体材料，磁性材料，金属材料，有機材料， 無機材料など）の薄膜形成技術