• 円形断面を有する3次元マイクロ流体ネットワーク
  • Siナノプローブを有するマイクロツール
  • V字加工したSi基板上に配向成長したカーボンナノチューブのSEM像
  • Si基板上に形成したひずみGe/SiGe微細柱状構造のSEM像
  • Si基板上に形成したひずみGe/SiGe微細柱状構造のSEM像
  • サブ100nm幅・高アスペクト有機トレンチ加工の実施例
  • 垂直成長ナノグラフェン「カーボンナノウォール」の合成例
  • Si製無痛針アレイ
  • 再帰性反射ミラー
  • GMR素子を利用したマイクロ磁気センサ
  • Co/Pt多層膜ナノドットの磁区像

薄膜形成からナノ構造・ナノデバイス作製まで総合支援

 名古屋大学は,ナノテクノロジーに関連する広範な技術領域およびそれらに必要となる各種材料群(半導体材料,磁性体材料,誘電体材料,セラミックス系材料,有機系材料など)に対して,最先端の薄膜形成技術,リソグラフィー技術,プラズマエッチング技術を保有しており,ナノ材料形成,ナノ構造形成,ナノデバイス形成などさまざまな支援を行うことができます。具体的には,クリーンルーム等の施設におけるスパッタリングや分子線エピタキシーによる薄膜の形成,フォトリソグラフィや電子線リソグラフィによる微細加工,イオン注入や反応性エッチング装置によるナノプロセス,光電子分光,原子間力顕微鏡,薄膜X線回折による表面分析や構造解析など,多様な装置群の利用とノウハウの提供によって,新規ナノ材料,ナノプロセス,ナノデバイスの研究開発を幅広く支援します。

 本事業では,下記の技術および支援を行います。
○ ナノスケール/マイクロスケール微細パターン形成技術
○ ナノ配線・ナノ電極形成技術
○ ナノドット・ナノ構造等の配列技術
○ プラズマを用いた各種材料のエッチングおよび表面処理技術
○ 各種電子・光デバイス構造作製技術
○ MEMS・NEMS構造作製技術
○ 各種材料(半導体材料,磁性材料,金属材料,有機材料, 無機材料など)の薄膜形成技術