ナノ構造の作製と評価
　～産学官研究者に先端の研究環境を提供～

　名古屋大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリーは「高次機能ナノプロセスに関する研究」を中心テーマとし，半導体，量子デバイス，有機・生物分子・機能材料など，将来の産業を支える基盤技術の研究開発を推進するための研究機関です．研究施設は200m²のクリーンルームに微細加工装置，薄膜作製装置の他，クリーンドラフトや超純水装置などの半導体ナノプロセスに必要な設備が整っています．また，走査電子顕微鏡をはじめ走査型プローブ顕微鏡，顕微ラマン装置などの観察，評価装置も充実しており，ナノ構造の作製から評価まで，学内外の多くの研究者・学生が利用している研究施設です．

薄膜作製装置

　デバイスの電極形成によく利用される電子ビーム蒸着装置は高融点金属や酸化物をナノメータのオーダーで成膜することができます． ハースは4連レボルバー式で多層膜の形成も容易に行うことができますし，基板ホルダーもレボルバー式なので膜厚を変えた複数の試料を比較的短時間で作製することができます．スパッタ絶縁膜作製装置はECRプラズマと13.56 MHzの高周波を使って緻密な絶縁膜を作製する装置です．通常ターゲット材料はシリコンを装着ており，シリコン酸化膜，窒化膜の形成に利用していますが，ターゲットをアルミニウムに換えることも可能です．

電子ビーム蒸着装置

スパッタ絶縁膜作製装置

微細構造作製装置

　レーザー描画装置は直描で最小寸法0.6 μmの高精細なパターンが形成できますので，高周波電子デバイスなどの試作研究に利用できます．ビームフォーカスは光学と空圧の2方式がありますので，反射率の高い基板にも対応できます．また，ガラスマスクの作製も可能なので，マスクアライナ（フォトリソグラフィ）と併用して，電子デバイス，バイオセンサ，ナノチューブトランジスタ等のパターン形成に使われています．
　反応性プラズマエッチング装置は異方性エッチングに優れ微細パターンを作製することができます．エッチング装置はICP方式とCCP方式の装置を利用できますが，サンプルで使い分けています． ICPエッチング装置はGaN，GaAsなど化合物半導体用でプロセスガスはCl₂となります。ICPはプラズマ密度が高いのでエッチングレートは速く、イオンエネルギーが低いことから、結晶面へのダメージを抑えることができますのでトランジスタなどの作製に有効です．CCP式エッチング装置（RIEエッチング装置）はシリコン半導体用でプロセスガスはCF₄,SF₆,O₂が利用できます．どちらの装置もレシピ機能と自動化で再現性の良いエッチングが可能です．

レーザー描画装置

ICPエッチング装置

RIEエッチング装置

ナノ構造評価装置

　電界放出形走査電子顕微鏡（FE-SEM）は0.5nmの分解能でナノメートルの試料構造を観察することができます．X線分析装置(EDX)を装備していますので表面元素の定性・定量・面分析ができます．もう一台1.5nm分解のSEMは大型試料の観察に適しており，サンプルに応じてどちらのSEMも利用することができます．また，段差計は触針式なので精度よくナノメータの形状観察や膜厚の測定に利用できます．その他，評価装置として顕微ラマン分光装置，オージェ電子分光装置（AES）などありますので必要に応じて対応いたします．

電極を架橋する
カーボンナノチューブのSEM像

走査電子顕微鏡

クリーンルームと設備

クリーンルーム：	クラス1,000と10,000の2部屋	クリーンドラフト
クリーンドラフト：	無機用4台，有機用3台
付属機器：	UVドライクリーナー オーブン プラズマ灰化装置 ホットプレート イオンコーター ウオーターバス 光学顕微鏡 実体顕微鏡 非接触膜厚計
供給設備：	超純水（18 MΩcm） 液体窒素

連絡先： 名古屋大学ベンチャービジネスラボラトリー　鄭恵貞
Tel. 052-789-5275  
E-mail : cheong.heajeongimass.nagoya-u.ac.jp