計測・分析装置
走査型電子顕微鏡
概要
本装置は，FE電子銃を備えた走査型電子顕微鏡で，EDXによる元素分析も可能である．微細加工された試料表面の構造の観察や元素分析に広く利用されている．
仕様/性能
日本電子社製 JSM-6301F
二次電子像分解能：1.5 nm（加速電圧15 kV）
反射電子像分解能：3.0 nm（加速電圧39 kV）
倍率：10〜500,000
プローブ電流：10-12〜10-10 A
電子銃：冷陰極電界放射形
加速電圧：0.5〜30 kV
保存形式：ポラロイドカメラ，電子ファイル
エネルギー分散型分光器による組成分析可能
走査型電子顕微鏡
概要
分解能0.5nmの高分解能SEMで微細構造を観察できます．走査透過電子像(STEM)を観察できますし，X線分析装置(EDX)を装備していますので，元素の 定性・定量・面分析ができます．
仕様/性能
日立ハイテクフィールディング社製 Ｓ5200
加速電圧：0.5kV～30kV
分解能：0.5nm(30kV)
倍率：～2,000,000
最大試料サイズ：5mmX9.5mm
EDX：HORIBA EX‐250
走査型電子顕微鏡
概要
電界放出形走査電子顕微鏡の標準機です．100mmφまでの大きな試料を導入することができますし，イオンコーターとオスミウムコーターが利用できますので，絶縁性試料の観察にも適しています． EBIC測定もできます．
仕様/性能
日立ハイテクフィールディング社製 Ｓ4300
加速電圧：0.5kV～15kV
分解能：1.5nm(15kV)
倍率：～500,000
最大試料サイズ：直径100mm
薄膜X線回折装置
概要
薄膜の結晶構造，膜面に対する結晶の方位，単結晶基板上の薄膜のエピタキシャル関係解析，結晶配向の程度，結晶粒の大きさ，多層膜/人工格子の層状構造の解析などの測定に利用することができます．
仕様/性能
RIGAKU製 ATX-G
測定モード：θ−2θスキャン，ロッキングカーブ，逆格子面マッピング，
極点図測定，膜面内φスキャン，φ−2θχスキャンなど
線源：Cu-Kα1（2結晶，4結晶Geモノクロメータ）
出力：18 kW
ゴニオメータ軸：ω，2θ，2θχ軸の独立駆動
（分解能0.0001deg）
試料ステージ軸：並進移動用X, Y, Z軸，面内回転用φ軸，あおり補正用Rx，Ry軸
解析ソフトウエア：SmartLab Studio II
原子間力顕微鏡
概要
薄膜表面形状および磁気構造を測定します．また，MFMモードでは，電磁石によって，試料に磁界を加えられますから磁界による磁区構造の変化を観察することが出来ます．その他，電流像の観測，プローブ位置を制御した微細加工など，幅広い利用が可能です．
仕様/性能
Bruker AXS社製 Dimeinsion3100+NonoscopeIV
観測モード：
・AFM（コンタクト，タッピング，ノンコンタクト）
・STM MFM EFM LFM
・表面電位顕微鏡，電流像，リソグラフィー
スキャン領域：XY方向 約90μm，Z方向 約6μm
試料サイズ：最大150ｍｍφ - 12mmt
防音フード有
In-situ 電子スピン共鳴（ESR)
概要
試料中に存在する不対電子を，大気圧プラズマ照射化でリアルタイムに計測が可能．ラジカルのみ照射など，多様なプロセス条件を実現可能． ガス分析にも対応可．
仕様/性能
Bruker社製 EMX Premium X
サンプルサイズ：最大5mm幅，石英管，ガス分析可
磁気特性評価システム群
概要
磁性材料の磁化曲線の測定，磁気異方性の評価，磁気光学効果の評価といった総合的な磁気特性解析を行うことができます。
仕様/性能
交番磁界勾配型磁力計
LakeShore社製 PMC MicroMag 2900
感度：1 x 10-8 emu
最大磁界：22 kOe
試料サイズ：最大5 mm x 5 mm x 2 mm（200 mg以下）
測定温度：20 K ～ 300 K
振動試料型磁力計
理研電子社製 BHV-55
感度：2 x 10-6 emu
最大磁界：15 kOe
試料：板状（薄膜）試料および粉末試料など
測定温度：77 K ～ 1073K
トルク磁力計
東英工業 TRT-2
感度：0.002 erg
最大磁界：16 kOe
試料：薄膜 10 mm x 10 mm以下，針状 長さ1mm以下
測定温度：77 K ～ 773 K
磁気光学スペクトロメータ
感度：2 x 10-3 deg
最大磁界：16 kOe
試料：薄膜 30 mm x 30 mm以下
測定温度：室温 ～ 300˚C
小型微細形状測定機
概要
本装置は二次元表面粗さ解析及び段差測定を，高精度・高分解能に実施できます．また，微少測定力で軟質試料面にも対応しています．
仕様/性能
小坂研究所社製 ET200
最大サンプルサイズ：φ160×厚さ48mm
再現性：1σ 1nm以内
測定範囲：Z：600μm X：100mm
分解能：Z：0.1nm X：0.1μm
測定力：10μN〜500μN
蛍光バイオイメージング装置
概要
本装置は，高い光学性能を有する倒立顕微鏡に，レーザ共焦点蛍光システムを導入し，蛍光を発する物体の三次元形状を正確に観察することができます。適応可能な物体としては，蛍光物質を導入したレジスト等の透明材料から細胞や組織等に広く対応可能です。レーザは紫外から赤色までの4種類に対応しており多くのサンプルを計測可能です。
仕様/性能
ニコン社製 共焦点レーザ顕微鏡 A1Rsi-N
蛍光励起レーザ：405 nm，488 nm，561 nm，635 nm
対物レンズ：100倍，10倍，20倍
デジタルマイクロスコープ
概要
本装置は，対象物に対して，蒸着・切断・加工などの前処理は一切不要で観察，測定が行なえます。最高18000倍の高解像度を実現するとともに，観察視野すべてに焦点が合った超深度画像で観察可能です。非接触3次元測定観察視野全域の3次元データをレーザで取得でき，非接触なので様々な対象物に対応し，高精度で多彩な3次元解析が行なえます。
仕様/性能
KEYENCE社製 VK-9700
分解能：高さ方向 0.01 μm，水平方向 0.13 μm
最大観察倍率：3,000倍
測定用光源：波長 408 nm
デジタルマイクロスコープ
概要
仕様/性能
KEYENCE社製 VK-9510
分解能：高さ方向 0.01 μm，水平方向 0.14 μm
最大観察倍率：3,000倍
測定用光源：波長 408 nm
X線光電子分光装置
概要
本装置では，XPSによる表面分析を行うことができる．Arイオンスパッタによる深さ方向分析も可能で，スペクトル測定はPCを操作して行なう．試料の導入に伴う真空系の操作，X線源，スパッタ銃などの操作は機器を直接マニュアルで操作する．試料は同時に複数枚を導入可能で，測定条件にも依存するが１日に５水準程度の試料を測定可能．装置の操作には真空装置，各種線源，分光装置に関する十分な理解が必要である．表面分析装置であるため，利用には汚染に対する特段の注意が必要である．
仕様/性能
VG社製 ESCALAB250
Mg/Alツインアノード
AlモノクロX線源
Arスパッタ銃
角度分解測定用マニュピレータ
最大試料サイズ：20mmφ
フーリエ変換赤外分光分析装置
概要
仕様/性能
日本分光社製 FT/IR-615V型
測定波数範囲：7800～350cm-1
・透過および全反射測定対応
・干渉計，試料室，検出器部真空引き可能
蛍光りん光分光光度計
概要
測定試料に光を照射することによってエネルギーを吸収させ，それによる試料からの蛍光・燐光を分析する装置です。蛍光測定モードから燐光測定モードにソフトウェア上で簡単に切換えができます。
仕様/性能
堀場製作所製 Fluoromax-4P
光源：オゾンレスキセノンランプ、燐光用フラッシュランプ
試料最大サイズ：〜10 mm角程度
燐光寿命計測範囲：10 µs以上
発光波長計測範囲：290~970 nm
段差計
概要
二次元表面粗さ解析及び段差測定に最適で、高精度・高分解能・優れた安定性 を実現できます。触針圧を変えることで，金属からレジストまで対応します。
仕様/性能
小坂研究所製 ET200A
最大サンプルサイズ：φ160×厚さ52mm
再現性：1σ 0.3nm以内
測定範囲：Z：600 µm，X：100mm
分解能：290~970 nm
測定力：10 µN〜500 µN